Isotetrasilan

chemische Verbindung From Wikipedia, the free encyclopedia

Isotetrasilan ist eine chemische Verbindung aus der Gruppe der Silane.

Schnelle Fakten Strukturformel, Allgemeines ...
Strukturformel
Strukturformel von Neopentasilan
Allgemeines
Name Isotetrasilan
Andere Namen
  • iso-Tetrasilan
  • 2-Silyltrisilan (IUPAC)
  • Trisilylsilan
Summenformel Si4H10
Kurzbeschreibung

farblose pyrophore Flüssigkeit[1]

Externe Identifikatoren/Datenbanken
CAS-Nummer 13597-87-0
PubChem 154067616
ChemSpider 24593587
Wikidata Q16655234
Eigenschaften
Molare Masse 122,42 g·mol−1
Aggregatzustand

flüssig[1]

Dichte

0,793 g/ml[2]

Schmelzpunkt

-99,4 °C[2]

Siedepunkt

101,7 °C[2]

Löslichkeit

reagiert mit Wasser[1]

Sicherheitshinweise
GHS-Gefahrstoffkennzeichnung[1]
Gefahrensymbol Gefahrensymbol Gefahrensymbol

Gefahr

H- und P-Sätze H: 225250314335
P: 210222231+232233240241[1]
Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0°C, 1000 hPa).
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Gewinnung und Darstellung

Isotetrasilan wird im Gemisch mit zahlreichen anderen Silanen bei der Zersetzung von Magesiumsilicid mit wässriger Säure erhalten.[3] Eine andere Herstellungsmethode nutzt die Einwirkung elektrischer Entladungen auf Monosilan (SiH4). Das erhaltene Siangemisch wird dann gaschromatografisch aufgetrennt.[4][5] Die Isomerisierung von n-Tetrasilan zu Isotetrasilan gelingt in Gegenwart von Aluminiumchlorid.[6] Die Verbindung kann auch durch Hydrierung des Perchlorisotetrasilans, ClSi(SiCl3)3, mit Diisobutylaluminiumhydrid (DIBAL-H) hergestellt werden.[7]

Synthese von Isotetrasilan
Synthese von Isotetrasilan

Eigenschaften

Isotetrasilan ist eine farblose Flüssigkeit, die sich an der Luft spontan entzündet.[8] Synthese und Handhabung dieser Verbindung muss daher unter Argon oder Stickstoff in einer Glovebox oder mittels Schlenktechnik erfolgen. Die Verbindung kristallisiert bei −99,4 °C in der monoklinen Raumgruppe P21/c (Raumgruppen-Nr. 14).[7]

Verwendung

Isotetrasilan ist kommerziell verfügbar.[8] Dies erleichtert die Verwendung der Verbindung als Präkursor zur Abscheidung von Siliciumschichten aus flüssigen Siliciumtinten.[9][10] Mögliche Anwendungen dieser Siliciumtinten in der Halbleiterindustrie werden intensiv untersucht.[11][12]

Einzelnachweise

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