Tétrafluorure de silicium
composé chimique
From Wikipedia, the free encyclopedia
Le tétrafluorure de silicium, également appelé tétrafluorosilane, est un composé du silicium à géométrie tétraédrique et de formule SiF4, il s'agit donc d'un halogénure de silicium (à l'instar du tétrachlorure de silicium de formule SiCl4).
| Tétrafluorure de silicium | |||
| Structure du tétrafluorure de silicium | |||
| Identification | |||
|---|---|---|---|
| Synonymes |
tétrafluorosilane |
||
| No CAS | |||
| No ECHA | 100.029.104 | ||
| No CE | 232-015-5 | ||
| PubChem | |||
| SMILES | |||
| InChI | |||
| Apparence | gaz incolore, d'odeur acre[1]. | ||
| Propriétés chimiques | |||
| Formule | SiF4 | ||
| Masse molaire[2] | 104,079 1 ± 0,000 3 g/mol F 73,02 %, Si 26,98 %, |
||
| Propriétés physiques | |||
| T° fusion | −90 °C | ||
| T° ébullition | −86 °C | ||
| Solubilité | dans l'eau : réaction[1] | ||
| Masse volumique | 1,66 g·mL-1 (−95 °C, solide)[3] 4,69 g·L-1 (0 °C, gaz)[3] |
||
| Point critique | 37,2 bar, −14,15 °C[4] | ||
| Propriétés électroniques | |||
| 1re énergie d'ionisation | 15,24 ± 0,14 eV (gaz)[5] | ||
| Cristallographie | |||
| Symbole de Pearson | [6] | ||
| Classe cristalline ou groupe d’espace | I43m (n°217)[6] | ||
| Précautions | |||
| SGH[7] | |||
| H280, H314, H330, EUH071, P260, P280, P303, P304, P305, P315, P338, P340, P351, P353, P361, P403 et P405 |
|||
| SIMDUT[8] | |||
A, D1A, E, |
|||
| NFPA 704 | |||
| Transport[7] | |||
|
|||
| Unités du SI et CNTP, sauf indication contraire. | |||
| modifier |
|||
À température et pression ambiantes, ce composé se présente sous forme d'un gaz incolore. Sa plage d'existence à l'état liquide est singulièrement étroite : entre −90 °C et −86 °C.
Ce composé inorganique a été synthétisé pour la première fois en 1812 par le chimiste anglais John Davy[9],[3], frère du célèbre physicien et chimiste Sir Humphry Davy.
Production
Le traitement thermique de l’hexafluorosilicate de baryum (BaSiF6) à des températures supérieures à 300 °C permet de synthétiser le tétrafluorure de silicium à l'état gazeux ainsi que du fluorure de baryum (BaF2) en tant que résidu solide[3].
Utilisation
En microélectronique, le tétrafluorure de silicium est utilisé :