Tuomo Suntola

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Tuomo Suntola
Tuomo Suntola pendant son discours d'ouverture de la conférence internationale ALD de la Baltique
le à Helsinki[1].
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Finnish Academy of Technical Sciences (d) ()Voir et modifier les données sur Wikidata
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Tuomo Suntola, né en 1943 à Tampere, est un physicien, inventeur et un leader technologique finlandais, connu pour ses recherches pionnières en science des matériaux, développant la technique de croissance à couche mince appelée Atomic Layer Deposition[2],[3].

En 1971, Tuomo Suntola soutient sa thèse de PhD en physique des semi-conducteurs à l'université technologique d'Helsinki. Après son PhD, Tuomo Suntola réalise son premier développement industriel au centre de recherche technique de Finlande, un capteur d'humidité à couche mince Humicap pour Vaisala Oy.

En 1974, Tuomo Suntola lance le développement d’écrans électroluminescents en couches minces au sein de la société finlandaise Instrumentarium oy. Il introduit la technologie atomic layer epitaxy (ALE), connue de nos jours sous le nom de atomic layer deposition (ALD), comme solution pour la fabrication des dispositifs électroluminescents nécessitant des films minces à très haute capacité diélectrique[4]. La technologie sera introduite dans la production industrielle de dispositifs électroluminescents au milieu des années 1980 par Lohja Corporation en Finlande[3]. L'ALD deviendra par la suite une des techniques de fabrication clés pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs.

En 1987, Suntola crée Microchemistry Ltd, une filiale de la société pétrolière nationale Neste Oy, pour appliquer la technologie ALD à de nouveaux domaines d'application, tels que les dispositifs photovoltaïques à couche mince, les catalyseurs hétérogènes et les dispositifs à semi-conducteurs. En 1998, Microchemistry Ltd. et la technologie ALD sont vendus à ASM International, un fournisseur majeur d’équipements de fabrication de semi-conducteurs.

Le , Tuomo Suntola reçoit le Prix Millennium Technology d'un montant de 1 million d'euros. Sa technologie est utilisée pour fabriquer des couches de matériaux ultra-minces pour une variété de dispositifs tels que les ordinateurs, smartphones, microprocesseurs et mémoires, permettant des performances élevées dans les petites tailles[5].

Reconnaissance

Publications

Références

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