舛岡富士雄
日本の電子工学研究者
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舛岡 富士雄(ますおか ふじお、1943年5月8日 - )は、日本の電子工学研究者。フラッシュメモリの発明者として知られており、1980年代にNOR型フラッシュメモリおよびNAND型フラッシュメモリを開発した[1]。1988年には、初期の非平面型3Dトランジスタである初のGate-all-around(GAA)MOSFET(GAAFET)も発明している。
ますおか ふじお 舛岡 富士雄 | |
|---|---|
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文化功労者顕彰に際して公表された肖像写真 | |
| 生誕 |
1943年5月8日(83歳) |
| 国籍 |
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| 教育 | 工学博士 |
| 出身校 |
群馬県立高崎高等学校 東北大学 |
| 職業 | 電子工学研究者 |
| 団体 |
東芝(1971年 - 1994年) 東北大学(1994年 - ) |
| 著名な実績 | NOR型フラッシュメモリ及びNAND型フラッシュメモリの開発・発明 |
| 肩書き |
東北大学大学院情報科学研究科教授(1994年時点) 東北大学電気通信研究所教授(1996年 - 2007年) 東北大学電気通信研究所名誉教授(2007年 - ) 通信・放送機構仙台リサーチセンターサブリーダー(1996年 - 2001年) 電子情報技術産業協会電子材料・デバイス技術専門委員会委員(2001年 - 2004年) 日本学術振興会特別研究等審査会専門委員(2002年 - 2004年) |
| 敵対者 | 東芝(2004年 - 2006年) |
| 受賞 |
IEEEモーリス・N・リーブマン記念賞(1997年) 市村産業賞本賞(2000年) 本田賞(2018年) |
| 栄誉 |
紫綬褒章(2007年) 文化功労者(2013年) 瑞宝重光章(2016年) |
元東芝社員。東北大学名誉教授。現在は日本ユニサンティスエレクトロニクス株式会社最高技術責任者(CTO)として、Surrounding Gate Transistor(SGT)の開発を行っている。紫綬褒章、文化功労者、瑞宝重光章。
来歴
- 1943年 群馬県高崎市出身。
- 1962年 群馬県立高崎高等学校卒。
- 1966年 東北大学工学部電子工学科卒業。西澤潤一に師事する。同大学大学院工学研究科電子工学専攻修士課程進学。
- 1968年 同修士課程修了、同博士後期課程進学。
- 1971年 同博士後期課程修了。工学博士(東北大学甲第1431号、学位論文『半導体インダクタンスに関する研究』)。株式会社東芝に入社。
- 1980年 NOR型フラッシュメモリを発明。
- 1986年 NAND型フラッシュメモリを発明。
- 1994年 同社退社、東北大学大学院情報科学研究科教授。
- 1996年 東北大学電気通信研究所教授。
- 2004年 日本ユニサンティスエレクトロニクス株式会社最高技術責任者(CTO)。
受賞歴
フラッシュメモリ発明にまつわるエピソード
東芝退社とその後
その後、東芝は舛岡を地位こそ研究所長に次ぐ高い地位だが、反面、研究費も部下も付かない技監(舛岡曰く窓際族)に昇進させようとした。研究を続けたかった舛岡は、何とか研究を続けられるよう懇願したが受け入れられず、1994年に東芝を退社した[6]。1992年に東芝は当時は未熟だった市場拡大を目的としてNAND型フラッシュメモリの技術をサムスン電子に供与したが[7]、サムスンは巨額投資を重ねることで東芝を追い抜いて世界のフラッシュメモリのシェアで首位に立っている。東芝のNAND型フラッシュメモリも利益の大部分を稼ぎ出す主力事業に育ったが、2017年にも東芝首脳部の判断への批判があり舛岡も東芝だけではなく日本にも自身の開発した技術を正しく評価してくれる者がいなかったと嘆いている[8][9]。
その後、東北大学大学院や、退官後に就任した日本ユニサンティスエレクトロニクス等で、フラッシュメモリの容量を10倍に増やす技術や、三次元構造のトランジスタ(Surrounding Gate Transistor)など、現在も研究者として精力的に研究活動を行っている。
裁判
論文
- K Hieda, F Horiguchi, F Masuoka. "High performance CMOS surrounding gate transistor (SGT) for ultra high density LSIs." Electron Devices Meeting, 1988. IEDM'88. Technical Digest., International. IEEE, 1988.
- A Nitayama, F Horiguchi, F Masuoka. "A surrounding gate transistor (SGT) cell for 64/256 Mbit DRAMs." Electron Devices Meeting, 1989. IEDM'89. Technical Digest., International. IEEE, 1989.
- K Hieda, F Horiguchi, F Masuoka. "Impact of surrounding gate transistor (SGT) for ultra-high-density LSI's." IEEE Transactions on Electron Devices 38.3 (1991): 573-578.
- K Hieda, F Horiguchi, F Masuoka . "Multi-pillar surrounding gate transistor (M-SGT) for compact and high-speed circuits." IEEE Transactions on Electron Devices 38.3 (1991): 579-583.
- F Horiguchi, K Ohuchi, F Masuoka. "A novel circuit technology with surrounding gate transistors (SGT's) for ultra high density DRAM's." IEEE Journal of Solid-State Circuits 30.9 (1995): 960-971.