シルセスキオキサン From Wikipedia, the free encyclopedia T₈-POSS シルセスキオキサン（英語: silsesquioxane）は、化学式 [RSiO1.5]n（R = H、アルキル、アリールなど）で表される有機ケイ素化合物である。 Si–O–Si結合をもつかご型（ケージ状）、はしご型（ラダー状）あるいはランダム型の高分子状構造をとり、Si頂点は正四面体配置をなす。 かご型シルセスキオキサン（POSS）はセラミックス材料やナノコンポジットのためのセラミック前駆体としての利用が注目されており、無機のシロキサン結合で構成される核と有機置換基を併せ持つ有機無機ハイブリッド分子である。 様々な置換基（R）をSi中心に導入することができる。 シルセスキオキサンは通常、有機トリクロロシランの加水分解により合成される。[1] n RSiCl 3 + 3 n 2 H 2 O − > [ RSiO 3 2 ] n + 3 n HCl {\displaystyle n\,{\ce {RSiCl3}}+{\frac {3n}{2}}\,{\ce {H2O}}->[{\ce {RSiO_{3/2}}}]_{n}+3n\,{\ce {HCl}}} 脚注 ↑ Jones, R. G.; Ando, W.; Chojnowski, J. (2000). Silicon-Containing Polymers: The Science and Technology of Their Synthesis and Applications (1st ed.). Dordrecht, The Netherlands: Kluwer Academic Publishers. pp. 157–183. ISBN 1-4020-0348-X この項目は、化学に関連した書きかけの項目です。この項目を加筆・訂正などしてくださる協力者を求めています（プロジェクト:化学／Portal:化学）。表示編集 Related Articles
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