空乏層 From Wikipedia, the free encyclopedia 空乏層（くうぼうそう、depletion layer）とは、半導体のPN接合などでみられる、キャリアがほとんどなく、電気的に絶縁された領域のこと。欠乏層とも言う。 半導体のPN接合部分やショットキー接合、MOS接合において見られる、電子や正孔（キャリア）のほとんど存在しない領域。多数キャリアを欠くことで帯電し、電気二重層と内蔵電場を形成する。キャリアの移動に対しては1種の障壁として作用する。 空乏層の幅は印加電圧によって変化する。正方向に電圧をかけることによって縮小または解消する。逆方向に電圧をかけた場合には、その範囲が広がり、電子の移動を妨げる。 厚みが1nm前後またはそれ以下になるとトンネル効果を示す。ダイオードやトランジスタなど各種の半導体素子で利用される。 関連項目 可変容量ダイオード 表話編歴半導体分類 P型半導体 N型半導体 真性半導体 不純物半導体 種類 窒化物半導体 酸化物半導体 アモルファス半導体 磁性半導体 有機半導体 半導体素子 集積回路 マイクロプロセッサ 半導体メモリ TTL論理素子 バンド理論 バンド構造 バンド図 バンド計算 第一原理バンド計算 伝導帯 価電子帯 禁制帯 フェルミ準位 不純物準位 自由電子 正孔 ドーパント ドナー アクセプタ 物性物理学 トランジスタ バイポーラトランジスタ 絶縁ゲートバイポーラトランジスタ 電界効果トランジスタ 薄膜トランジスタ MOSFET パワーMOSFET CMOS HEMT サイリスタ 静電誘導サイリスタ ゲートターンオフサイリスタ UJT 関連 ダイオード 太陽電池 関連項目 pn接合 ホモ接合 ヘテロ接合 単一ヘテロ接合 ダブルヘテロ接合 空乏層 金属半導体接合 ショットキー接合 オーミック接触 電子工学 パワーエレクトロニクス 電力用半導体素子 光エレクトロニクス 電子回路 増幅回路 高周波回路 半導体工学 半導体デバイス製造 金属 絶縁体 熱酸化 フィラデルフィア半導体指数 カテゴリツリー コモンズ・カテゴリツリー 典拠管理データベース: 国立図書館 ドイツ Related Articles
