静電界分布に蓄えられるエネルギーUは次のように表される。
比誘電率εrの媒体中のイオンの電場の大きさは
であり、また体積要素
は
, であらわされるため、エネルギー
は次のように表される:
したがって、イオンが真空(εr =1)から誘電率εr の媒質に溶解する際のエネルギーは次のようになる:
ここでイオン半径r0結晶イオン半径riを用いたものをボルン式と呼び、実際の溶媒和エネルギーに近づけるために溶媒のさやの厚みrsを加えた溶媒和イオン半径(ri+rs)を用いたものを改良ボルン式と呼ぶ。
アルカリ金属イオンに対する溶媒和イオン半径を表1に示す。この値は溶媒のルイス酸・塩基性(ドナー数)に依存し、ドナー数の大きいものがカチオンに対するrsが大きくなる。ドナー数は溶媒和における共有結合性に関連しており、溶媒和の連続体とみなせない部分の一部を補正する値とみなせる[3]。
ボルン式の溶媒和補正項 rs
| 溶媒 |
ドナー数 |
rs / Å |
εr |
| ベンゾニトリル |
11.9 |
0.83 |
25.2 |
| アセトニトリル |
14.1 |
0.82 |
38.0 |
| スルホラン |
14.8 |
0.80 |
43.0 |
| プロピレンカーボネート |
15.1 |
0.82 |
65.1 |
| プロピオニトリル |
16.1 |
0.80 |
26.1 |
| エチレンカーボネート |
16.4 |
0.86 |
89.6 (40℃) |
| アセトン |
17.0 |
0.74 |
20.7 |
| 水 |
18.0 |
0.72 |
78.5 |
| ジメチルホルムアミド |
26.6 |
0.69 |
36.7 |
| ジメチルスルホキシド |
29.8 |
0.68 |
46.4 |