透明電極 From Wikipedia, the free encyclopedia 透明電極とは高い電気導電性と可視光透過性を兼ね備えた併せ持つ材料（透明導電体）を用いた電極のことである。透明性と導電性の両方が求められる電子デバイス（液晶ディスプレイ・タッチパネル・発光ダイオード・太陽電池など）の電極材料として用いられる。 液晶ディスプレイや有機EL、タッチパネル、有機太陽電池などの電子表示装置に使用される。 いずれも化合物半導体の一種で従来は酸化インジウムスズが使用されてきたが、資源の高騰により、近年では代替素材の開発が進められ、酸化亜鉛、酸化スズ等が開発されつつある。他にポリアニリンやグラフェン等の有機材料の開発も進められる[1]。 種類 酸化インジウムスズ →詳細は「酸化インジウムスズ」を参照 透明度や導電性が優れているものの、豊羽鉱山の閉山等に伴いインジウムの価格が高騰しており、代替素材の開発が進められる。 酸化亜鉛 →詳細は「酸化亜鉛」を参照 材料費が安いので代替材料の候補として開発が進む。 酸化スズ →詳細は「酸化スズ」を参照 材料費が安いので代替材料の候補として開発が進む。 酸化チタン →詳細は「酸化チタン」を参照 光学特性、耐候性に優れるため太陽電池の電極として開発が進む。 グラフェン →詳細は「グラフェン」を参照 代替材料の候補として開発が進む。 脚注 ↑ グラフェン透明電極 表話編歴薄膜作成法 気相堆積法 物理気相成長法（PVD） 真空蒸着法 抵抗加熱蒸着法 電子ビーム加熱蒸着法（EBPVD）（英語版） パルスレーザー堆積法（PLD）（英語版） 分子線エピタキシー法（MBE） スパッタリング 化学気相成長法（CVD） 熱CVD 有機金属化学気相成長法（MOCVD） ツーフローMOCVD 触媒化学気相成長法（Cat-CVD） プラズマCVD 原子層堆積（ALD） 液相堆積法 融液法 液相エピタキシー法 溶液法 めっき ゾルゲル法 塗布法 スピンコート 印刷 インクジェット 機能・応用 ゲート絶縁膜 MEMS 薄膜トランジスタ 反射防止膜 透明電極 巨大磁気抵抗効果 磁気テープ 有機EL カテゴリ Related Articles
