フジミインコーポレーテッド
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株式会社フジミインコーポレーテッド（英: FUJIMI INCORPORATED[3]）は、愛知県清須市に本社を置く世界的大手研磨材メーカー。1950年に不二見研磨材工業所として名古屋市昭和区で創業。1991年に不二見研磨材販売株式会社、株式会社エフディティ、フジミ興産株式会社の3社を合併し現社名に変更。1950年に日本で初めて精密人造研磨材を製造し、現在半導体シリコンウェハー製造用研磨材で世界No.1シェアを有している。2022年3月期は純利益過去最高値を更新し、営業利益率23%と高い値を維持している。社員への還元率も高く、賞与平均は8カ月を超える。
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 テクノプラザ (岐阜県)にある研究開発センター | |
| 種類 | 株式会社 |
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| 機関設計 | 監査役会設置会社[1] |
| 市場情報 | |
| 略称 | FUJIMI フジミ |
| 本社所在地 |
 日本〒452-8502 愛知県清須市西枇杷島町地領二丁目1番地1 北緯35度12分26.4秒 東経136度51分41.3秒 |
| 設立 |
1953年（昭和28年）3月20日 （不二見研磨材工業株式会社） |
| 業種 | ガラス・土石製品 |
| 法人番号 | 7180001045697 |
| 事業内容 | |
| 代表者 |
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| 資本金 |
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| 発行済株式総数 |
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| 売上高 |
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| 営業利益 |
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| 経常利益 |
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| 純利益 |
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| 純資産 |
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| 総資産 |
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| 従業員数 |
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| 決算期 | 3月31日 |
| 会計監査人 | 有限責任監査法人トーマツ[2] |
| 主要株主 | |
| 主要子会社 | #関連会社参照 |
| 外部リンク | https://www.fujimiinc.co.jp/ |
概要
研磨用粉体製造及び遊離砥粒製品の大手グローバル企業。半導体シリコンウェハーの製造工程で使用されるラッピング材、ファイナルポリシング材はいずれも他を圧倒する高い世界シェアを有しており、会社の収益の根幹となっている。半導体用途としてはウエーハプロセスで使用されるCMP（化学的機械的研磨）の研磨材でもマーケットシェアを伸ばしており、半導体の性能を左右するトランジスタ素子形成工程（FEOL）のポリシリコン向けにおいては世界シェアの過半を占めている。一般研磨材の延長としての機能性研磨材やハードディスクドライブ基板用研磨材においても中心的な存在となっている。
研磨材の基礎技術として必要となる分級技術に特徴があり、粉体の特性を利用した製品への技術展開を進めており、溶射材等の硬度を持たせた皮膜形成材への事業展開も進めている。
経営
沿革
- 1950年8月 - 不二見研磨材工業所を名古屋市昭和区に創業[2]。
- 1953年3月 - 不二見研磨材工業株式会社を設立[2]。
- 1957年 - 東京通信工業（株）（現ソニー（株））のゲルマニウム半導体基盤用研磨材ニーズに対応。
- 1959年
- 1960年 - 光学用硝子・板硝子向けのポリシング材FR［フジミレミロックス（酸化セリウム）］を生産開始。
- 1961年1月 - ゲルマニウムウェハー用ポリシング材［FS］を生産開始。
- 1967年7月 - シリコンウェハー用ポリシング材［GLANZOX］を発表。
- 1970年 - 稲沢工場操業[2]。
- 1971年 - 光学レンズ研削用の［FDP］を開発。
- 1974年 - シリコンウェハー用ポリシング材［GLANZOX］シリーズを開発。
- 1975年 - GaAsウェハー用ポリシング材［INSEC］シリーズを開発。
- 1977年1月 - プラスチックレンズ用研磨材［POLIPLA］を生産開始。
- 1978年 - 「東京技術センター」を閉鎖。
- 1980年10月 - 本社ビル完成。
- 1981年 - ［COMPOL］シリーズを開発。
- 1983年 - ハードディスク用ポリシング材［MEDIPOL-N］シリーズを開発。
- 1984年 - FUJIMI CORPORATIONを米イリノイに設立[2]。
- 1985年 - 各務原工場操業[2]。
- 1987年 - シリコンウェハー用精密研削砥石［FPW-E］シリーズを開発。
- 1988年
- 5月 - FUJIMI AMERICA INC.を米国オレゴン州に設立。
- 9月 - 超高純度のシリコンウェハー用ポリシング材［GLANZOX3900］ を開発。
- 1990年11月 - ディスク用ポリシング材［DISKLITE］シリーズを開発。
- 1991年 - 不二見研磨材販売株式会社、株式会社エフディティ、フジミ興産株式会社の3社を合併し現社名に変更[2]。
- 1993年10月 - ディスク用テクスチャー［DIATEC-GTX］シリーズを開発。
- 1994年6月-9月 - 本社、稲沢、各務原および米国の全生産拠点が国際標準化機構「ISO9002」の認証を取得。
- 1995年4月
- 1996年
- 10月 - FUJIMI AMERICA INC.トゥアラタン工場（米国オレゴン州）の操業開始。
- 12月 - 岐阜県各務原市に各務東町工場操業[2]。
- 1999年
- 1月 - 岐阜県各務原市に物流センター新設。
- 3月 - 国内の全生産拠点が国際標準化機構「ISO9001」の認証を取得。
- 11月 - FUJIMI CORPORATIONを100%子会社化。
- 2000年
- 2001年1月 - 耐衝撃WCサーメット溶射材［SURPREX W2010X］を発表。
- 2002年10月 - 世界初、HVOF［高速フレーム溶射］による微粉末溶射システムの確立に成功。
- 2003年7月 - FUJIMI AMERICA INC. はFUJIMI CORPORATIONと合併し、商号をFUJIMI CORPORATIONに変更。
- 2004年1月 - FUJIMI EUROPE LIMITED （イギリス）およびFUJIMI EUROPE GMBH（ドイツ）を設立し営業開始。
- 2005年10月 - 台湾竹北市に駐在員事務所を開設。
- 2007年
- 2008年
- 5月 - 各務東町工場第2棟の操業開始。
- 10月 - 韓国ソウル市に駐在員事務所を開設。
- 2010年
- 創業60周年。
- 9月 - FUJIMI EUROPE LIMITED（イギリス）はFUJIMI EUROPE GmbH（ドイツ）に移管。
- 2011年 - 台湾子会社FUJIMI TAIWAN LIMITED設立[2]。
- 2013年 - 韓国子会社FUJIMI KOREA LIMITED設立[2]。
- 2015年
- 1月 - 中国子会社FUJIMI SHENZHEN TECHNOLOGY CO.,LTD.設立[2]。
- 4月 - 先端技術研究所を設立。
- 2022年
- 4月 - 東京証券取引所の市場区分見直しにより、東京証券取引所市場第一部からプライム市場に移行。名古屋証券取引所の市場区分の見直しにより、名古屋証券取引所市場第一部からプライム市場に移行。
- 11月 - FUJIMI KOREA LIMITEDを清算。
関連会社
- FUJIMI CORPORATION（アメリカ）
- FUJIMI-MICRO TECHNOLOGY SDN. BHD.（マレーシア）
- FUJIMI EUROPE GmbH（ドイツ）
- FUJIMI TAIWAN LIMITED（台湾）
- 南興セラミックス株式会社（日本）
